污水處理廠紫外線消毒模塊設備的技術問題

一：紫外線消毒模塊工作原理:紫外線消毒器采用特殊設計的高效率、高強度和長壽命的紫外UV-C光發生裝置產生的強紫外UV-C光照射流水。當水中的細菌、病毒等受到一定劑量的紫外UV-C光(波長253.7nm)照射后。其細胞DNA及結構被破壞，細胞再生無法進行，從而達到水的消毒和凈化。而波長185nm的譜線還可以分解水中的有機物分子，產生氫基自由基并將水中有機物分子氧化為二氧化碳，達到去除TOC的目的。

三：影響紫外線消毒效果的因素 ：

1. 紫外劑量 紫外劑量是指單位面積上的接收到的紫外線能量，等于紫外光強度與接觸時間的乘積。在相同的紫外光強度條件下，接觸時間決定紫外劑量。從理論上分析，紫外劑量越大，消毒效果越好，但在實際應用中紫外劑量有一極限值，超過此值后不但不能有效地對額外的微生物進行滅殺，而且還增大了消毒的成本。

2.懸浮物 懸浮物對紫外線消毒的影響主要表現在：

①懸浮顆粒吸收并分散了紫外線能量；

②微生物隱藏在顆粒中受到庇護，削弱了紫外線的滅活效果。因些，進入紫外線消毒系統的污水懸浮物濃度要嚴格控制，一般推薦懸浮物不應高于20mg/L。而紫外線消毒系統前端沉淀或過濾處理程度將決定懸浮物濃度的高低，間接影響消毒效果。    

4.光復活作用 污水流經紫外線消毒渠后，水中的微生物均由于紫外線的照射受到損傷以致死亡，但一些微生物受到可見光照射后，在體內光復活酶的作用下，將連接在一起的二聚體解聚形成單體，從而恢復其復制能力，這種現象稱為光復活。紫外消毒的微生物復活現象在水處理領域內普遍存在，大部分指示性微生物（如大腸桿菌等）都具有一定程度的復活功能，因此對微生物光復活現象的控制是紫外消毒效果的重要保證之一。采用增加消毒劑量、出水在避光條件下排放等方式可有效控制微生物復活現象。  

四：注意事項  

①紫外線消毒系統設計時要充分考慮進水水質、水量波動、污水廠工藝特點、設備環境條件及擬定消毒目標等因素。

②前端處理工藝對懸浮物的有效控制是紫外線消毒系統高效率殺菌的前提條件。

③紫外燈管表面結垢將極大地影響燈管產生的紫外光射入水中，可以通過定期清洗燈管加以解決。

④紫外燈管頻繁開關，將嚴重影響使用壽命或總體劑量，每天開關4次以下屬正常操作。紫外線技術的應用趨勢 
隨著水質標準的不斷嚴格和人們安全意識的提高，紫外線消毒模板在以下領域將有著更加廣闊的應用前景：污水消毒；高級氧化；泳池等工、商業工藝用水的氧化及消毒處理，油田回注水、醫院廢水等特殊領域的消毒處理；飲用水消毒；消除臭氧；消除余氯；表面消毒；空氣消毒；其它工業領域，包括食品業、飲料業、制藥業、化妝品業、制造業、高技術產業等。

明渠式紫外線消毒設備配置：

1、單組最佳處理規模：200~2800t/h
2、低壓高強燈
3、手動清洗或機械加化學自動清洗系統
4、劑量同步控制
5、標準遠程監控
6、模塊狀態監視
7、紫外強度傳感及報警系統
8、出水堰水位控制/自動水位控制器

下一條: 污水處理廠要不要上紫外線消毒模塊設備